Alicat Conductor 改善濺射鍍膜的真空控制 薄膜涂層的進步對我們?nèi)粘Ｉ畹膸缀跛蓄I域都產(chǎn)生了深遠的影響，雖然很多肉眼不可見，只是微觀可測。 薄膜表面功能化涂層的實施目的一般有：一是賦予薄膜新的功能；二是對薄膜進行保護提升耐用率；三是對薄膜起到裝飾作用。薄膜的制備方法很多，但所有方法都集中于沉積從幾個原子到幾個微米的材料層。 產(chǎn)生薄膜的常用的方法之一是濺射鍍膜，濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊鍍料表面，使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術。 此篇文章我們將帶您了解有關薄膜涂層技術，以及真空如何使該過程更有效，更準確和更可靠。 1、防反射/高反射涂層 當光從具有一個折射率的介質(zhì)移動到具有不同折射率的介質(zhì)(例如空氣到玻璃)時，其中的某些光被反射而不是透射，分層涂層允許根據(jù)波長選擇性過濾光。 舉個栗子，如多層涂層的眼鏡有助于保護我們的視力，使其免受有害紫外線(<400nm)的傷害。 還有，非熒光試樣在通過熒光染料或熒光抗體染色后，可以在熒光顯微鏡下就可從顏色和反差中清晰地分辨其中不同的細胞組織。 
圖片由美國國立衛(wèi)生研究院提供 用熒光蛋白描繪的培養(yǎng)的HeLa癌細胞圖解了高爾基體(橙色)、微管(綠色)和帶有DNA的細胞核染成了藍色。熒光激發(fā)和分色是通過薄膜涂覆的濾光片實現(xiàn)的。 2、透明導電氧化物涂層 透明導電氧化物(TCO)涂層允許涂覆幾乎不可見的導電涂層。應用多的集中TCO材料是：氧化銦錫(ITO，In2O3：Sn)，摻鋁的氧化鋅(AZO，ZnO：Al)，摻氟的氧化錫(FTO，SnO2：F)，摻銻的氧化錫(ATO，Sn2O：Sb)等。 TCO的應用領域非常廣，主要用于液晶顯示器的透明電極、觸摸屏、柔性OLED屏幕、光波導元器件以及薄膜太陽能電池等領域。 有些導電涂層還啟用了一些*的傳感器和應變監(jiān)測技術。 3、類金剛石碳鍍膜(DLC) 隨著像Duralar技術之類的公司開發(fā)專門設計用于制造DLC涂層的涂層工具，這些涂層之所以如此命名，是因為它們提供了與鉆石相同的許多特性：耐磨性(機械或化學)，硬度和潤滑性。這些高性能涂料正逐漸用于許多以前需要大量潤滑劑(通?；诨剂?以防止磨損的機械過程中。 汽車部件和切削工具通常涂有DLC涂層。DLC與合成鉆石非常相似，通常使用化學氣相沉積(CVD)進行涂覆。CVD與上述提到的其他薄膜更常用的濺射涂層不同。 DLC還用于微電子，醫(yī)療設備，顯示器和傳感器。 
經(jīng)許可使用的圖片 Duralar Centurion系統(tǒng)用于DLC的生產(chǎn)性，高成本效益應用。 4、生物相容性涂層 濺射在產(chǎn)生生物相容性涂層中也很有用。醫(yī)療設備制造商面臨的挑戰(zhàn)之一是找到具有所需特性(通常具有耐化學，生物和機械磨損性能)且不刺激免疫反應(通常稱為“排斥”)的材料。由于它們的生物反應性，許多通常很適合的材料無法使用。在許多情況下，可以屏蔽刺激免疫反應的材料，并使其與適當?shù)挠操|(zhì)涂層具有生物相容性， 典型的涂層包括氮化鈦(TiN)及其變體。 綜上所述，有許多用于沉積薄膜層的方法，而很受歡迎的工藝之一是濺射鍍膜(技術上是物理氣相沉積的一種形式)。濺射鍍膜的工作原理是在極低的壓力(真空條件)讓具有足夠高能量的粒子轟擊固體靶表面使靶中的原子發(fā)射出來，沉積到基片上成膜。 濺射鍍膜有兩類：離子束濺射和氣體放電濺射,我們今天說說離子束濺射(IBS)吧。 在離子束濺射(IBS)中，在真空室中，利用離子束轟擊靶表面，使濺射出的粒子在基片表面成膜。濺射技術通常需要先將腔室抽空，然后添加惰性氣體以產(chǎn)生等離子體(通常是氬氣)。在反應濺射中，添加其他氣體(通常是氧氣或氮氣)以產(chǎn)生沉積在基片表面的反應產(chǎn)物。然后，要創(chuàng)建合適的腔室條件，需要協(xié)調(diào)真空度，氬氣(或類似氣體)輸入以及潛在的反應氣體輸入。 真空控制在濺射鍍膜系統(tǒng)中的作用 濺射鍍膜系統(tǒng)的性能取決于許多因素，其中工藝氣體壓力和系統(tǒng)整體壓力是重要的因素，高精度、低延遲、成本效益和快速控制通常是操作中的關鍵因素。Alicat艾里卡特層流差壓工作原理可以確?？焖俸蜏蚀_地控制輸入氣體。Alicat艾里卡特質(zhì)量流量控制器響應時間快達30ms，并且可以將多個參數(shù)(體積、質(zhì)量流量、壓力和溫度)以高達1000次/秒的頻率反饋至系統(tǒng)。大多數(shù)Alicat艾里卡特質(zhì)量流量控制器的準確度是讀數(shù)0.6％，可確保傳輸準確的氣體量。Alicat艾里卡特質(zhì)量流量控制器內(nèi)置多個參數(shù)供輕松切換，可以快速、輕松地控制氣體(尤其是用于產(chǎn)生等離子體的氬氣)的流量。 控制濺射室內(nèi)的真空度也是濺射鍍膜工藝的重要組成部分。Alicat Conductor系列新產(chǎn)品可支持同時測量和控制室內(nèi)的真空度，并集成了真空計、真空控制器和節(jié)流閥的功能。Alicat Conductor系列可確保完成的真空度，使濺射室具備薄膜沉積的條件，隨著沉積過程的開始，其他氣體的引入以及溫度的變化會影響反應室條件和后續(xù)的過程控制。在整個過程中，Alicat Conductor可確保濺射室內(nèi)的壓力水平與您對過程控制的要求保持一致。 
上圖為簡化的真空鍍膜系統(tǒng)，Alicat Conductor替換多個組件, 從而提高了系統(tǒng)的響應速度并提高了效率 Alicat Conductor™系列集成真空控制器旨在快速控制泵送真空過程的壓力，可集成到您的系統(tǒng)中，替換多個組件。即使在低至10mTorr的低量程下，我們的傳感器也可以高精度工作。 Alicat Conductor系列使用的數(shù)字和模擬接口(或工業(yè)協(xié)議)，與真空控制系統(tǒng)無縫對接，這彌合了質(zhì)量流量控制系統(tǒng)和真空控制系統(tǒng)之間通常存在的通訊差距，從而可以從公共界面輕松訪問過程控制。Alicat的數(shù)字式顯示屏，可讓您一目了然地了解濺射室狀態(tài)。 立即與我們聯(lián)系，我們可按照您的要求定制質(zhì)量流量控制器和真空控制器來幫助您提高真空鍍膜工藝的準確度和效率。 |
